如果電壓降低或是進(jìn)水的總離子水平提高的話(huà),那么系統(tǒng)中的樹(shù)脂會(huì)更多的和離子發(fā)生交換,相應(yīng)的工作區(qū)間就往出水側(cè)移動(dòng),直至達(dá)到新的平衡,或是穿透,這一過(guò)程中,出水電導(dǎo)會(huì)發(fā)生一定的變化,出水的弱電離子增加是**明顯的表現(xiàn)。如果電壓上升或是進(jìn)水離子減少,則系統(tǒng)的工作區(qū)間會(huì)向進(jìn)水側(cè)發(fā)生移動(dòng),表現(xiàn)為出水水質(zhì)變好,弱電離子的含量減少。所以判斷系統(tǒng)的平衡狀態(tài)可以通過(guò)出水水質(zhì)變化,弱電離子的漏出多少來(lái)實(shí)現(xiàn),并可以通過(guò)工作區(qū)間的移動(dòng)來(lái)解釋。

     濃水流量的變化是另一個(gè)調(diào)節(jié)系統(tǒng)平衡的要素,特別是對(duì)于系統(tǒng)中的電流有直接影響。濃水的流量對(duì)去除弱電離子Ｓｉ也有一定關(guān)系。由于Ｓｉ在２５℃,ｐＨ值是６～８的水體中的溶解度是１２０ｍｇ／Ｌ。所以進(jìn)水的濃縮倍率達(dá)到一定程度后,Ｓｉ在濃水中就會(huì)飽和,導(dǎo)致不能進(jìn)行更深度的除硅,這也是確定濃水流量下限的條件之一。 IONPURE模塊上海純超環(huán)保值得推薦。上海正規(guī)IONPURE模塊廠(chǎng)家供應(yīng)

(5) 西門(mén)子EDI模塊，TOC(總有機(jī)碳)的影響。

     進(jìn)水中如果有機(jī)物含量過(guò)高，會(huì)造成樹(shù)脂和選擇透過(guò)性膜的有機(jī)污染，導(dǎo)致系統(tǒng)運(yùn)行電壓上升，產(chǎn)水水質(zhì)下降。同時(shí)也容易在濃縮水通道形成有機(jī)膠體，堵塞通道。

(6) 西門(mén)子EDI模塊，進(jìn)水中CO2的影響。

     進(jìn)水中CO2生成的HCO3-是弱電解質(zhì)，容易穿透離子交換樹(shù)脂層而造成產(chǎn)水水質(zhì)下降。

(7) 西門(mén)子EDI模塊，總陰離子含量(TEA)的影響。

     高的TEA將會(huì)降西門(mén)子EDI模塊產(chǎn)水電阻率，或需要提高西門(mén)子EDI模塊運(yùn)行電流，而過(guò)高的運(yùn)行電流會(huì)導(dǎo)致系統(tǒng)電流增大，極水余氯濃度增大，對(duì)極膜壽命不利。

另外，進(jìn)水溫度、pH值、SiO2以及氧化物亦對(duì)西門(mén)子EDI模塊系統(tǒng)運(yùn)行有影響。 上海正規(guī)IONPURE模塊廠(chǎng)家供應(yīng)IONPURE模塊上海純超環(huán)保讓您滿(mǎn)意的選擇。

   根據(jù)美國(guó)IONPURE IP-LXM45ZEDI模塊系統(tǒng)的運(yùn)行狀態(tài)，EDI系統(tǒng)的清洗采用酸洗—消毒—堿洗的方法來(lái)清洗EDI模塊。

1．

 清洗時(shí)，EDI系統(tǒng)的淡水室、濃水室和極水室都需要清洗。即清洗液從“原水進(jìn)”和”濃水進(jìn)”清洗口進(jìn)入EDI，從“產(chǎn)水”、“濃水出”、“極水出”回到清洗水箱。（正洗）

2．

第 一步 酸洗：清洗水箱中配制2.0%鹽酸溶液，循環(huán)30分鐘。

     沖洗：清洗水箱中酸洗液放掉后，將水箱中水沖洗至中性，然后將清洗進(jìn)和回流管清洗到回流水至中性。

第二步 消毒：清洗水箱中配制0.2%的H2O2溶液（約用25% H2O2的濃10kg）循環(huán)50分鐘。

     沖洗：清洗水箱中消毒液放掉后，清洗EDI至水箱中回流水至電導(dǎo)率降至100μs/cm以下。

第三步：堿洗：水箱中配制1.2%NaOH+5.0%NaCL 的溶液，循環(huán)50分鐘。

     沖洗：清洗水箱中消毒液放掉后，清洗EDI至水箱中回流水至電導(dǎo)率降至100μs/cm以下。

東麗ROMEMBRATM反滲透（RO）和納濾（NF）膜元件，廣泛應(yīng)用于大中小型水處理系統(tǒng)，無(wú)論在處理苦咸水還是海水，卓越的脫鹽性能、更高的產(chǎn)水量、較低的運(yùn)行壓力、更長(zhǎng)的使用壽命，被業(yè)界公認(rèn)為是**經(jīng)濟(jì)和**有效的膜法水處理核心部件。 東麗ROMEMBRATM膜元件為卷式結(jié)構(gòu)，獨(dú)特的排氣端蓋設(shè)計(jì)、較寬的流道格網(wǎng)，保證了膜元件具有更高的抗沖擊、抗污染性能。 東麗ROMEMBRATM膜元件型號(hào)及使用條件如下： ?TMH 極超低壓反滲透膜元件，比較低的能耗，適用于TDS≤1,000mg/L的系統(tǒng) ?TMG 超低壓反滲透膜元件，較低的能耗，適用于TDS≤2,000mg/L的系統(tǒng) ?TM7 低壓反滲透膜元件，更高的脫鹽率，適用于大中型苦咸水淡化系統(tǒng) ?TM720N 34mil高寬給水流道低壓反滲透膜元件，業(yè)界**寬流道 ?TM720C 低壓高脫硼反滲透膜元件，適用于高脫硼需求的系統(tǒng) ?TML 低壓抗污染反滲透膜元件，適用于高污染地表水、復(fù)雜水源、各種廢水回用 ?TML20N 34mil高寬給水流道低壓抗污染反滲透膜元件，業(yè)界**寬流道 ?TM820C 海水及高TDS苦咸水淡化反滲透膜元件 ?TM820A 高TDS海水淡化反滲透膜元件 ?TM820S 高脫鹽低能耗海水及高TDS苦咸水淡化高通量反滲透膜元件 ?TM820E 高脫鹽低能耗海水及高TDS苦咸水淡化反滲透上海純超環(huán)保出售原裝IONPURE模塊。

美國(guó)Ionpure IP-LXM45ZEDI模塊清洗步驟如下：

1．準(zhǔn)備

   1）關(guān)閉EDI系統(tǒng)。停止EDI系統(tǒng)運(yùn)行，確定EDI模塊的電源已被切斷并把整流器轉(zhuǎn)換鈕轉(zhuǎn)到“關(guān)閉”位置。

   2）關(guān)閉下列閥門(mén)：原水進(jìn)水閥、淡水產(chǎn)水閥、淡水沖洗排放閥、極水排放閥、濃水排放閥、濃水循環(huán)泵進(jìn)出口閥。

   3）將清洗水箱和相關(guān)的清洗管道清洗干凈。

   4）連接清洗管道。把淡水產(chǎn)水、濃水排放、極水排放的清洗管線(xiàn)直接連接到清洗水箱上。把原水進(jìn)水、濃水進(jìn)水清洗管線(xiàn)連接到EDI系統(tǒng)的原水進(jìn)水和濃水進(jìn)水清洗接口上。注意清洗管線(xiàn)必須牢固、緊密，以防止化學(xué)藥品的噴濺。 IONPURE模塊上海純超環(huán)保高性?xún)r(jià)比的選擇。上海正規(guī)IONPURE模塊廠(chǎng)家供應(yīng)

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IONPUREL-XM系列工業(yè)型膜堆是專(zhuān)門(mén)為工作應(yīng)用而設(shè)計(jì)的。美國(guó)IONPURE IP-LXM45Z EDI模塊具有極其可靠地生產(chǎn)出質(zhì)量穩(wěn)定的高純水，而不會(huì)由于再生而中斷運(yùn)行。美國(guó)IONPURE IP-LXM45Z EDI模塊可以應(yīng)用于電力、HP/CPI、電子、食品和飲料行業(yè)以及實(shí)驗(yàn)室中。

美國(guó)IONPURE IP-LXM45ZEDI模塊產(chǎn)品特色：

采用雙O-型密封圈進(jìn)行密封，確保膜堆在運(yùn)行中不發(fā)生泄漏；

產(chǎn)水水質(zhì)等同甚至優(yōu)于混床出水，無(wú)需使用化學(xué)藥劑；

連續(xù)產(chǎn)水且水質(zhì)穩(wěn)定無(wú)波動(dòng)，不似批處理設(shè)備呈周期變化；

不需要使用酸、堿中和系統(tǒng)及樹(shù)脂罐；

具有優(yōu)良的電絕緣性能；

在7bar（100psi）、45℃（113?F）條件下，可以連續(xù)運(yùn)行；

采用**注冊(cè)的“全填充”技術(shù)，不必使用濃水循環(huán)泵和加鹽系統(tǒng)。 上海正規(guī)IONPURE模塊廠(chǎng)家供應(yīng)

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